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气体分析仪器介绍 2020-03-06     总浏览:3131

在半导体领域中,磁控溅射镀膜工艺对靶材所含的气体和夹杂异常敏感,因为气体和夹杂会导致等离子体异常放电和显微颗粒的喷射,破坏和降低溅射薄膜质量,导致薄膜缺陷增加,控制溅射靶材中气体和夹渣对控制溅射薄膜质量有巨大影响。本公司拥有美国LECO公司的最新型号的三台气体分析仪,分别为CS844,ON836,RHEN602,可以用于高纯金属材料当中气体元素的检测。三台分析仪的优点是1.分析速度快2.准确性高 3.气体元素含量检测限低,CSON元素能达到1ppm,H含量能达到0.1ppm级别 4.具有较高的自动化配置,自动清扫装置,外加分析界面的触摸屏和灵活适用的软件,对返工样品可插入操作,不需要重新输入试样标识等。

 

 

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